Makrosiklus Organotin-Oxo yang Diarahkan Selenit untuk Nanolitografi

Abstrak
Desain sistematis makrosiklus organotin-oxo dengan kemampuan pemanenan foton ultraviolet ekstrem (EUV) yang ditingkatkan dan resolusi litografi sub-50 nm tetap menjadi tantangan penting dalam memajukan teknologi nanofabrikasi. Di sini, kami menyajikan serangkaian baru makrosiklus nbutiltin-oksigen polinuklir—Sn8, Sn12-α, Sn12-β, dan Sn12Fe18—yang dibangun melalui perakitan supramolekul yang digerakkan oleh ligan selenit. Di antara ini, Sn12-α menunjukkan kinerja litografi berkas elektron (EBL) yang luar biasa, mencapai resolusi dimensi kritis 50 nm pada dosis rendah 50 μC·cm-2, yang dikaitkan dengan kandungan Sn/Se yang tinggi, arsitektur molekul yang kompak (diameter, 1,5 nm), dan kemampuan pembentukan film yang sangat baik (kekasaran permukaan, 0,59 nm). Dengan mengganti ligan karboksilat konvensional dengan selenit anorganik, studi ini mengatasi keterbatasan yang sudah lama ada dalam fleksibilitas struktural dan efisiensi penyerapan EUV yang melekat pada sistem organotin-oxo tradisional. Temuan ini menetapkan paradigma untuk merekayasa fotoresis oksida logam melalui kontrol dimensionalitas kluster yang digerakkan oleh ligan, yang menawarkan jalur yang dapat diskalakan menuju pola dengan sensitivitas tinggi dan resolusi tinggi untuk manufaktur semikonduktor generasi berikutnya.